W100 加工参数对光学指标的影响
清单、敏感度量级、自己做的模拟验证。单绿表面浮雕波导，左眼。2026-10-16。
数值冻结在 w100/w100_params.py。本页没有新的 RCWA 或追迹结果。设计报告 p.8 的 nit/lm 仍是伯恩 / 逸文的数。
波长 / 带宽526 nm / 24 nm
基板0.4 mm · n=1.8
耦入378 nm · 65° · Ag
耦出758×353 · H 25–100
Eyebox15 × 7 mm
设计报告欠账E7 η、E3/E7 均匀性
齿深、占空比、银厚、圆角不出现在光栅方程里。它们改的是功率怎么分，不改视场能不能全反射、能不能出瞳。周期、方位、波长、折射率才改 k。两件事分开验。
1. 加工量怎样走到规格
左到右是因果，不是时间顺序。k 一旦被母版冻住，后面量产只能动齿深分布和少量占空比。出处：docs/book/04_design.md 第 4.5 节。
2. 加工参数清单
「标称 / 公差」来自规格书和设计报告。强 会先让边缘视场掉出全反射或把级次比改掉；中 主要改均匀性或效率的百分之几到几十；弱 在给出的公差窗里几乎不动光学；未冻结 规格写了「待定」或根本没给数。
2.1 基板与叠层
| 加工参数 | 标称 / 公差 | 它改什么 | 强度 | 出处 |
|---|---|---|---|---|
| 波导厚度 | 0.4 mm | 一次 TIR 往返的步长 Δ=2t tanθ。厚度变，同样路程上的抽光次数变，均匀性变。总厚上限 0.7 mm。 | 中 | 规格书 p.5；book/01 §1.5 |
| 基板折射率（钢化后） | n=1.8 | 临界角、导波环宽度、玻璃内传播角。钢化若把 n 漂了，等于把周期窗口整体挪了。 | 强 | 设计报告 p.3，Hoya FD60-w |
| 盖板 / 气隙 | 0.2 mm · n≈1.5；气隙 0.1 mm | 看世界的菲涅尔反射和鬼像通道。不进光栅 k。总厚 = 盖板 + 气隙 + 波导。 | 中 看世界 | 规格书 p.5、p.29 |
| 光栅树脂 | Inkron IOC-172，n=1.74 | 与基板对比度只有 0.06。耦入效率主要来自银反射和闪耀，不靠这个对比度。耦出是对空气的浅柱，对比度是 0.74。 | 中 耦出；耦入弱 | 设计报告 p.3–4；book/04 §4.3.1 |
2.2 耦入：1D 闪耀 + 银
| 加工参数 | 标称 / 公差 | 它改什么 | 强度 | 出处 |
|---|---|---|---|---|
| 周期 Pin | 378 ± 5 nm | 栅矢大小。正入射时 |K|/k0=λ/Pin=1.392，玻璃内传播角约 50.6°。±5 nm 约 ±0.9°。边缘视场最先掉出全反射。 | 强 k | 报告 p.3；规格书 p.8；book/04 §4.2.1、§4.6 |
| 底宽 Din、占空比 | 378 ± 5 nm；Din/Pin=1，需求 >0.97 | 锯齿是否铺满周期。占空掉下去，闪耀不再是「一整面斜镜」，设计级次变弱、漏到别的级。 | 强 效率 | 规格书 p.8；报告 p.3 |
| 齿深 H | 218 ± 5 nm | 只改级次效率，不改 k。几何上 H·tan65°≈468 nm，大于周期 378 nm，斜面必须在一个周期内截断。电磁模型要用截断后的轮廓，规格仍写 218 nm。 | 中 效率 | 规格书 p.8；book/04 §4.3.1 |
| 倾角 α、β | 65° ± 2°；0° ± 2°（对法线） | 斜面法线把金属反射指到哪一级。±2° 会明显改级次比。β 是面内偏，同时带一点方位误差。 | 强 效率 | 报告 p.3；规格书 p.8；book/04 §4.6 |
| 直线度 | ≤ 3° | 栅线局部转动，栅矢方位漂。3° 的横向残差约 0.073 k0，大约是半视场（sin 12.1°≈0.21）的三分之一。边缘视场的闭合先裂。 | 强 k | 规格书 p.8。残差是本页按 |K|sin3° 估算 |
| 面内方位 φ | 6°（相对 +x） | 导波能流朝 Eyebox（中心在 y=−3 mm），不是正 +x。母版转角误差和直线度是同一类 k 误差。 | 强 k | 报告 p.6 |
| 圆角 R | 待定 | 削弱高阶，略改设计级。量产 SEM / AFM 轮廓要回灌 RCWA，不能用理想尖角代替。 | 未冻结 | 规格书 p.8；book/04 §4.3.2 |
| 银厚、银折射率 | >500 nm，公差 ±2 nm；n=0.0525−3.095i（参考） | 光学厚度远大于趋肤深度（强度 1/e 约 13.5 nm），背面可当不透明。±2 nm 在 500 nm 上不改衍射。吸收来自银，耦入效率到不了 1。TM 的 RCWA 谐波收敛差，见已有报告。 | 弱 对 ±2 nm；材料本身强 | 报告 p.3；规格书 p.8；本仓库 Ag 收敛报告 |
2.3 耦出：2D 柱，兼扩瞳
| 加工参数 | 标称 / 公差 | 它改什么 | 强度 | 出处 |
|---|---|---|---|---|
| 周期 Px、Py | 758 ± 5 nm；353 ± 5 nm | 两根倒格矢。等效周期 (Px⁻²+Py⁻²)^(−1/2)=320.0 nm，报告写 319.5 nm。它们必须和耦入栅矢闭合。改周期会裂开 k，不能拿来凑效率。 | 强 k、彩虹 | 报告 p.4、p.6；规格书 p.8–9。报告 p.4 OCR 把 y 周期写成 Pout_x，以规格书 D2_Y=353 nm 为准 |
| 顶宽、占空比 | 379 / 176.5 nm；DC=0.5 ± 0.01 | 矩形柱的傅里叶分量。DC=0.5 是为了低阶干净、好做，不是电磁最优。0.5 附近 ±0.01 对一阶几乎是驻点，敏感度低；若漂到 0.4 / 0.6 才明显。 | 弱 在 ±0.01 内 | 报告 p.4；规格书 p.8–9；book/04 §4.2.2 |
| 齿深 Hmin / Hmax | 25 / 100 nm，各 ±5 nm | 弱光栅，抽光大约按 (Δn·H/λ)²。25→100 nm 大约 16 倍。浅端 ±5 nm 是 20% 的相对误差，均匀性会漂。深端 ±5 nm 只是 5%。 | 强 在浅端 | 报告 p.7；规格书 p.9；book/04 §4.3.2、§4.6；book/05 §5.2 |
| 渐变轴 θ | 45° ± 2°（相对 x） | 近端少抽、远端多抽，否则近端抽干、鼻侧发暗。不改单胞效率，改的是效率铺在哪。v2 为平行四边形改成沿对角线，那组均匀性不能拿去对规格。 | 中 均匀性 | 报告 p.7；规格书 p.9；book/04 §4.3.2 |
| 侧壁倾角 | ≤ 3° | 等效成占空比和齿深一起漂，弱光栅效率跟着漂。 | 中 | 规格书 p.9 |
| 顶 / 侧圆角 | 待定 | 同耦入：高阶变、一阶略变。SEM 回灌之前，仿真用理想矩形。 | 未冻结 | 规格书 p.9 |
| k1 / k2 方位 | 71° 与 −59°；与耦入 k 各夹 65°；等效周期 319.5 nm | −K1 在环内折向 Eyebox，−K2 耦出并闭合。方位是母版取向，和周期是同一类冻结量。 | 强 k | 报告 p.6 |
| 耦出区位置与外形 | x 17.5–44.72 mm，y −5.76–6.25 mm | 光栅必须盖住 Eyebox 和边缘视场的斜投影。铺不到的角不贡献虚像，仍贡献雾度和彩虹。v2 平行四边形是在这块外包上减面积，不改周期。 | 中 覆盖、雾度 | 规格书图7；报告 p.5；book/04 §4.4 |
2.4 镀膜、遮镀、可靠性
| 加工参数 | 标称 / 公差 | 它改什么 | 强度 | 出处 |
|---|---|---|---|---|
| 遮镀对准、过渡区 | 对准 ≤ ±5 μm；过渡 ≤ 50 μm | AR 只做在非光栅区。边缘散射亮线来自这条过渡。单胞 RCWA 和 hop 追迹都没有这条边。 | 中 看世界；虚像 k 无 | 规格书 p.29–30；报告 p.9；book/03 §3.5 |
| 增透膜 | 盖板远眼：AR+加硬+防污；近眼：AR+可选防污。波导非光栅区遮镀 AR，近眼 AR+可选防污 | 0 阶透过率、色度、气隙鬼像。不改光栅栅矢。 | 中 透过 / 色度 | 规格书 p.9、p.29 |
| 加硬、防污 | 4H 铅笔 750 g；水滴角 >110° | 可靠性和清洁。不进当前光学模型。粗糙了才会抬雾度。 | 弱 光学 | 规格书 p.9、p.29 |
| 雾度规格（结果，不是旋钮） | 光栅区 <0.2；非光栅区 <0.1 | 来自粗糙度、圆角、缺陷、多余光栅面积。当前仿真没有散射模型。 | 实测项 | 规格书 p.7 |
规格没有冻结、但压印一定会碰到的量
残余层厚度、树脂收缩带来的周期缩放、母版线宽偏置。它们会同时挪占空比和有效齿深，严重时缩放周期、裂开 k。规格书表格里没有这三项。docs/book/04_design.md 只把「压印、镀银、遮镀对准」列为工艺约束，没有给残余层纳米数。验证方案里把它们单列成「有 SEM 再扫」，不要用猜测值写进标称模型。
3. 打到哪条光学指标
行是加工量，列是规格书要的结果。空格表示这条因果在当前模型里不成立。「几何」只用光栅方程或规格书彩虹公式；「RCWA」是单胞；「追迹」是 hop。设计报告 p.8：U_EB=71.61%，U_EB258=95.03%；E7 光效 749.1 nit/lm，低于 800；E3 / E7 的视场均匀性 22.6% / 17.6%，低于 30%。
| 加工量 | 能否导波 / 出瞳 | η 与级次 | Eyebox / 视场均匀性 | 彩虹纹 | 透过率 / 色度 | 鬼影通道 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| Pin、Px、Py、方位、直线度、n | 几何。边缘视场先失败 | 级次还在不在，效率是次要的 | 能流方向变了，覆盖会空角 | 公式里的 d 就是这些周期 | — | 错误级次会不会落进空气光锥 |
| α、β、Din/Pin、耦入 H | — | RCWA 反射设计级。α 最敏感 | 只整体缩放耦入，不重画均匀性形状 | — | — | 漏到别的反射级，追迹要放进那些级 |
| 耦出 H 与渐变轴 | — | 单次抽光从百分之几变到更弱或更强 | 追迹。浅端公差主导 | 效率高的方向彩虹更显 | 齿越深，0 阶透过越低 | 深齿把寄生级也抬高 |
| 占空比 ±0.01、侧壁 ≤3° | — | 在 0.5 附近弱；侧壁中等 | 随抽光效率轻微漂 | 弱 | 弱 | 高阶傅里叶 |
| 银厚 >500 nm | — | 已饱和。吸收由 n,k 决定 | — | — | 耦入区不透 | — |
| Ag 的 n,k、树脂 n | n 基板才进 k | RCWA。银是吸收，树脂对比度主要影响耦出 | 间接 | — | 树脂 n 影响光栅区色度 | — |
| 齿深图、耦出外形 | 外形决定盖不盖得住 | — | 追迹的主旋钮 | 多余面积增加环境光被衍射的区域 | — | — |
| 遮镀 ±5 μm、AR、气隙 | — | — | — | 过渡区散射，不是周期彩虹 | 膜系 + 菲涅尔 | 气隙多次反射，当前 hop 没有 |
| 圆角、残余层 | 残余层若缩放周期则有 | 必须用实测轮廓 | 间接 | 轮廓改变环境光衍射效率 | 0 阶会变 | 高阶变 |
| 加硬、防污 | — | — | — | — | 只有粗糙度抬雾度时 | — |
MTF、畸变、拖影、光晕不在这张表的列里：当前仓库没有成像模型。它们和光栅色散、装配、光机有关，不能从单胞效率读出来。规格见规格书 p.6–7。
4. 六条可以手算的敏感度
下面的数是 2026-10-16 用规格标称值代进公式得到的，用来决定先扫谁。它们不是 RCWA 输出。
| 问题 | 算法 | 结果 | 所以先验什么 |
|---|---|---|---|
| 周期窗口 | 正入射要进全反射又不要出玻璃：λ/n < Λ < λ | 292 nm < Pin < 526 nm。378 nm 落在窗口里。|K|/k0=1.392，玻璃内 50.6°，临界角 33.7°。 | 先看边缘视场加光机 14° 俯仰之后还在不在环里，不要只看正入射。 |
| Pin ±5 nm | sinθ_g=(λ/Pin)/n | 373 / 378 / 383 nm → 51.6° / 50.6° / 49.7°。大约 ±0.9°。 | k 网格上扫这三个周期，数掉出全反射的视场点。 |
| 斜面自洽 | H·tan α | 218·tan65°=468 nm > 378 nm。一个周期走不完高度。 | RCWA 用截断轮廓。不要为了自洽去改周期。 |
| 银要多厚 | 强度趋肤深度 λ/(4πκ)，κ=3.095 | 13.5 nm。500 nm 约 37 个趋肤深度。 | 扫 20、50、100、200、500 nm，看设计级在哪饱和。不要扫 498 对 502。 |
| 浅齿公差 | 弱光栅抽光 ∝ H² | 25→100 nm 约 16 倍。浅端 ±5 nm 是 ±20% 的 H，效率相对变化约 40% 量级（2·ΔH/H）。深端 ±5 nm 约 10%。 | 均匀性扫描把 Hmin 的 ±5 nm 放在 Hmax 前面。 |
| 彩虹几何 | 规格书 sin i + sinθ = λ/d。θ 用出瞳距离 14 mm 和耦出边到 Eyebox 边估算：竖直约 24.1°，水平约 39.1°（与 eval_image_quality.py 同一几何，水平角的取法在代码里改过几次，以重跑为准） | d=758 nm：临界入射角大约竖直 17°、水平 4°，远低于规格 >80° / ≥89°。d=319.5 nm：这两个观察角上 1 阶不存在。d=353 nm：竖直方向不存在，水平约 59°。 | 先对规格书图 24，确认「水平 / 垂直」用的是哪一个周期。长周期在几何上关不掉彩虹，短周期有可能关掉。效率高低是第二步。 |
彩虹这行是几何估算，不是电磁仿真，也不是产品结论。规格是否通过，要等周期方向和图 24 的定义对齐之后再判。
5. 自己做的四段模拟验证
顺序是：先 k，再单胞，再把效率铺到 Eyebox，最后看世界。每一段只回答一个问题。相对通量可以比「改之前 / 改之后」，不能写成 nit/lm。
阶段 0 · 解析，不跑求解器
目的：确认标称 k 闭合，并留下 Pin、方位、彩虹的基线。大约十几分钟。
cd /d d:\Mac\Simulation\w100 python eval_image_quality.py
看 output/W100/image_quality_geometry.txt。
after_IC_in_TIR应接近 100%：耦入之后视场在导波环里。after_out_in_air应接近 100%：耦出之后回到空气光锥。- 彩虹行的
i_v/i_h抄下来，对照上一节的手算。对不上就先查 θ 的定义，不要改光栅。
然后用一段不改仓库的脚本，只挪周期和方位，看玻璃内角度和闭合残差：
cd /d d:\Mac\Simulation\w100
python -c "import math,sys; sys.path.insert(0,'.'); import w100_params as P
lam,n=P.LAMBDA_NM,P.N_WG
def th(p):
s=(lam/p)/n
return None if s>=1 else math.degrees(math.asin(s))
for p in (373,378,383):
print('Pin',p,'theta_g',round(th(p),2))
# 直线度 3 deg：横向残差 / k0
print('rot3_k0', round((lam/P.PIN_NM)*math.sin(math.radians(3)),4))
print('half_fov_sin', round(math.sin(math.radians(P.FOV_X_DEG/2)),4))"
这一阶段算做完：三个周期的角度、3° 残差、彩虹文本都落在笔记里。还没有效率。
阶段 1 · k 网格：公差会不会让视场漏光
目的：周期 ±5 nm、方位 ±3° 之后，视场还全不全反射、还能不能出瞳。用 couplers_coor_w100。齿深不要放进这一阶段。
- 标称跑一次
couplers_coor_w100(12, 4)，和设计报告「每个 Eyebox 点 12×4 视场」对齐。记录耦入后 TIR 比例、转折后 TIR 比例、耦出后落在空气锥的比例。判据和eval_image_quality.ghost_order_check相同。 - 一次只改一个量，改完改回去：
PIN_NM= 373 和 383；POUT_X_NM±5；POUT_Y_NM±5；PHI_IC_DEG= 3° 和 9°（直线度上限）。 - 每个案子数：失败点数 / 总点数。失败定义是书里写的三条：中间态 kz²≤0，或没锁住全反射，或出射落在空气盘外（
docs/book/04_design.md§4.2.3）。
这一阶段算做完：有一张「参数 → 失败视场比例」的表。失败比例升高的参数，后面禁止用效率去补。
光机偏航 −3.23°、俯仰 +14° 已经叠在
couplers_coor_w100.py 里。镜片自身的 +2.5° / +7° 是戴上之后的姿态，不要再加一次（book/03 §3.4）。阶段 2 · 单胞 RCWA：谁在分功率
标称 LUT 已经能跑：
cd /d d:\Mac\Simulation python w100_v2\run_all.py
需要 meent。耦入在 w100_v2/rcwa_lut.py 的 _blaze_ucell：玻璃入射，银衬底，读反射 −1 阶。耦出读透射设计级和反射 0 阶。现成函数只扫角度和三个齿深，不扫 α 和银厚。公差扫描要在调用 meent.call_mee 时换周期、倾角或衬底，每次只换一个。
| 扫描 | 取值 | 记录 | 怎样读 |
|---|---|---|---|
| 耦入倾角 α | 63°、65°、67° | TE、TM 分开的 R(−1)、R(0)、吸收 | 预期比齿深 ±5 nm 更动级次比。TE 与 TM 不要先平均。 |
| 耦入齿深 | 213、218、223 nm | 同上 | k 不变。只看效率漂移。 |
| 耦入周期 | 373、378、383 nm | 效率，以及该级是不是仍是导波级 | 效率可以差不多，视场仍然会漏。漏不漏以阶段 1 为准。 |
| 银厚 | 20、50、100、200、500 nm | R(−1) 随厚度 | 曲线变平之后，规格里的 ±2 nm 可以停。 |
| 谐波数 | 沿用已有 Ag 收敛扫描 | TE 与 TM 的 R(−1) 对 Nx | TM 不平稳之前，不要把某一个 Nx 的效率写成结果。见 Ag 收敛报告。 |
| 耦出齿深 | 20、25、30、50、75、95、100、105 nm | 设计级透射、反射 0 阶 | 应随 H 单调上升，浅端斜率更大。用来核对 ∝H² 的量级，不是代替 RCWA。 |
| 占空比 | 0.40、0.49、0.50、0.51、0.60 | 设计级 | 0.49 与 0.51 应很近；0.40 与 0.60 应分开。用来确认 ±0.01 是弱项。 |
| 圆角或残余层 | 只有 SEM / AFM 轮廓才做 | 与理想矩形的设计级之差 | 没有轮廓就跳过，表格里写「未测」。 |
有 RSoft 时，用 rsoft_blazed_incoupler/ 对同一几何再算一列，只做交叉核对。两套都是傅里叶模态法，银的 TM 不收敛会一起出现，对上了不等于真值。
这一阶段算做完：每个扫描有 TE/TM 曲线，并且 Ag 的谐波曲线附在耦入效率旁边。还没有 Eyebox。
阶段 3 · 追迹：均匀性只比相对值
目的：齿深图和渐变轴怎样改变 E 点之间的相对通量。入口是 w100_v2/evaluate.py 的 evaluate_layout，LUT 用阶段 2。
- 先固定规格矩形耦出区和渐变轴 45°，作为对规格的基线。v2 平行四边形和对角线齿深是另一项研究，数字不要和 45° 基线混在一张符合性表里。
- 只改 Hmin：25、20、30 nm，Hmax 保持 100 nm。看近端和远端（E2/E5/E8 相对 E7 一侧）的通量比。
- 只改渐变轴：43°、45°、47°。
- 记录 U = min/max。可以写「相对基线变好或变差」。不要写 nit/lm，也不要和设计报告 71.61% 直接相减，除非光机流明、光谱和测量立体角都接上了。
已知缺口：当前 hop 的耦出落点可能填不满规格 15×7 的 E1–E9，于是均匀性变成 0。那是折转后的 hop 方向、耦出外形、记分窗三者没对齐（book/05 §5.3.2）。出现全 0 时，先把落点画出来，不要去调齿深。
阶段 4 · 看世界
- 彩虹：阶段 0 的几何临界角。没被几何关掉的方向，用阶段 2 的环境光入射角做 RCWA，看衍射效率是否低到可忽略。规格门槛是水平临界入射角 >80°、垂直 ≥89°（规格书 p.6、p.22–23）。
- 透过率：光栅区 0 阶透射，波长按规格四段（430–470、470–520、520–580、580–650 nm），角度 0–30°。非光栅区另算菲涅尔加 AR，不要用光栅 0 阶去顶非光栅区的 >95%。
- 遮镀 ±5 μm 和 50 μm 过渡：单胞模型没有这条边。要看散射亮线，需要单独做边缘的有限结构，或者实测。
建议的完成顺序
阶段 0 当天。阶段 1 第二天。阶段 2 先做 α、银厚饱和、耦出 H、Ag 谐波，再做占空比。阶段 3 等 LUT 里至少有三个齿深。阶段 4 的彩虹以阶段 0 的周期核对为前提。加硬、水滴角、铅笔硬度不进这个循环。
6. 这套方案验不了什么
- 绝对光效 η（nit/lm）。仓库输出是相对通量。设计报告 p.8 是另一套仿真。
- MTF、畸变、拖影、光晕、ANSI 对比度。没有成像链路。
- 雾度。没有粗糙度散射。
- 气隙多次反射鬼像、遮镀边缘亮线。
- 圆角和残余层，在轮廓测出来之前。
- 标量 LUT
w100/lut_w100.py的闪耀包络可以看趋势，不能当阶段 2 的结果。
7. 信息来源
分三档。A 是项目冻结值，表里的纳米数和公差都以它为准。B 是本仓库对 A 的推演，敏感度公式和「先扫谁」来自这里。C 是公开文献，只支撑方法，不包含 W100 的实测。
A. 项目文件
| 文件 | 用了什么 |
|---|---|
| 逸文科技《W100 规格书》V1.0，2025-09-28 | 系统、微纳公差、光学门槛、镀膜与遮镀、彩虹公式 sin i + sinθ = λ/d（p.22–23）、E1–E9 |
| 伯恩光学 / 逸文《W100 设计报告》，2025-09-29 | 材料与银厚、k-layout、齿深渐变、遮镀工艺图、p.8 仿真光效与均匀性 |
docs/W100_spec_extracted.md | 上面两份 PDF 的提取。周期冲突处已注明采用规格书 |
w100/w100_params.py | 机器可读冻结，每项带 Cite |
B. 本仓库的推演
| 文件 | 用了什么 |
|---|---|
docs/book/01_foundations.md 至 06_evaluate.md | k 与齿深分工、弱光栅 ∝H²、评估分层 L0–L5、彩虹几何与光度学单位 |
w100/couplers_coor_w100.py | 阶段 1 的 k 网格 |
w100/eval_image_quality.py | 阶段 0 的彩虹与级次通道。文件头写明不是成像、不是 RCWA |
w100_v2/rcwa_lut.py、evaluate.py | 阶段 2、阶段 3 的入口。2D 角谱很稀，Ag TM 需要截断 |
| Ag 收敛报告 | 同一闪耀几何上，TE 很快平、TM 到 61 个模态仍在跳 |
C. 公开文献（方法，不是 W100 数据）
| 文献 | 用在这页的哪一句 |
|---|---|
| M. G. Moharam, T. K. Gaylord, “Rigorous coupled-wave analysis of planar-grating diffraction,” J. Opt. Soc. Am. 71, 811–818 (1981) | 单胞效率用 RCWA / 傅里叶模态法 |
| T. Levola, “Diffractive optics for virtual reality displays,” J. Soc. Inf. Disp. 14, 467–475 (2006) | 衍射波导用光栅把空气光锥搬进全反射环，再搬出来 |
| B. C. Kress, I. Chatterjee, “Waveguide combiners for mixed reality headsets: a nanophotonics design perspective,” Nanophotonics 10, 41–74 (2021) | 表面浮雕可压印复制；彩虹和色散是这条路线要单独管的项 |
| Y. Zhang 等, Opt. Express, DOI 10.1364/oe.584116 | 系统层用光栅 LUT 加光线追迹做快速评估。官方核是 1D 的 IC→FC→OC，W100 的 2D 区是套在这个接口上的 |
| 同组 beam tracing, DOI 10.1364/oe.570463 | 几何覆盖先算一次，布局再迭代。v2 平行四边形沿这个思路，优化的是面积不是 U_EB |
| meent, arXiv 2406.12904 | 阶段 2 的 RCWA 实现 |
银的复折射率是规格书给出的参考值，不是本仓库的椭偏测量。趋肤深度用的是强度 1/e：λ/(4πκ)。
页内含设计参数。空间和本仓库其他仿真报告在一起。